無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的可靠性測試Chiller（高低溫循環(huán)裝置/半導體溫控設備）憑借寬溫域、高精度、快速響應和全密閉系統(tǒng)等特性，廣泛適配多種對溫度控制要求嚴苛的特殊工藝場景。

　　一、半導體與微電子制造工藝

　　1. 晶圓前道制程

　　光刻（Lithography）

　　控制光刻膠涂布平臺溫度（±0.1℃），防止粘度漂移，提升圖案分辨率。

　　曝光后快速冷卻晶圓，制熱應力形變。

　　干法刻蝕（Dry Etch）

　　準確冷卻靜電吸盤（ESC）至-20℃~80℃，穩(wěn)定等離子體環(huán)境，提高刻蝕均勻性。

　　化學氣相沉積（CVD）/ 原子層沉積（ALD）

　　控制反應腔壁與氣體輸送管路溫度，避免副反應或顆粒生成。

　　快速熱處理（RTP）

　　配合高溫燈源，提供快速降溫路徑，用于退火后驟冷。

　　化學機械拋光（CMP）

　　恒溫拋光液（通常23±0.5℃），保障表面平整度。

　　2. 優(yōu)良封裝與測試

　　晶圓級封裝（WLP）、3D IC堆疊

　　控制臨時鍵合/解鍵合工藝中的熱壓溫度（如150~250℃）。

　　高溫老化測試（HTOL）、溫循測試（TCT）

　　支持-65℃~150℃快速溫變，模擬車規(guī)/航天芯片工況。

　　二、高分子與精細化工合成

　　1. 特種聚合反應

　　聚酰亞胺（PI）、環(huán)氧樹脂、聚氨酯等縮聚反應常需150~300℃恒溫，反應結(jié)束后需急速冷卻終止鏈增長。

　　冠亞可靠性測試Chiller可實現(xiàn)“升–恒–降"全流程閉環(huán)控制，避免爆聚或焦化。

　　2. 連續(xù)流微反應器（Microreactor）

　　強放熱/吸熱反應中，通過外循環(huán)Chiller準確控壁溫（±1℃），保障反應選擇性與收率。

　　支持24/7連續(xù)運行，適用于醫(yī)藥中間體、精細化學品生產(chǎn)。

　　三、新能源材料制備

　　1. 鋰電材料工藝

　　正前驅(qū)體共沉淀反應需50~60℃恒溫；

　　固態(tài)電解質(zhì)（如LLZO）高溫燒結(jié)前的預熱與冷卻控制。

　　2. 燃料電池催化劑熱處理

　　在惰性氣氛下進行200~300℃程序升溫，Chiller配合保護氣體系統(tǒng)防止氧化。

　　優(yōu)勢：全密閉油路系統(tǒng)，杜絕高溫下導熱油氧化，保障材料純度。

　　四、生物醫(yī)藥與制藥工程

　　1. 高沸點溶劑脫除與熔融結(jié)晶

　　某些API（活性藥物成分）需在180~250℃下脫除DMF、NMP等高沸點溶劑；

　　結(jié)晶終點快速降溫以控制晶型（如Form I vs Form II）與粒徑分布。

　　2. 凍干（Lyophilization）預冷階段

　　提供-40℃以下低溫載冷液，加速樣品凍結(jié)，提升凍干效率。

　　五、科研與高校實驗室

　　低溫物理實驗（如超導、量子器件測試）

　　激光器溫控（光纖激光、半導體激光器冷卻）

　　材料熱物性測試（DSC、DMA輔助控溫）

　　特點：噪音低、體積小、支持LabVIEW/Python遠程控制，適合教學與研發(fā)。

　　不適用場景提醒

　　可靠性測試Chiller不適合以下情況：

　　工藝溫度 > 350℃（超出導熱油安全上限）；

　　需要明火或開放式電加熱的工藝；

　　對介質(zhì)潔凈度要求高且嚴禁任何油類接觸（此時可選純水冷+電加熱組合方案）。

可靠性測試Chiller“一套系統(tǒng)替代傳統(tǒng)‘電加熱 + 冷水機’兩套設備"，實現(xiàn)高溫加熱、準確控溫、快速冷卻三位一體，特別適合高技術(shù)門檻、高可靠性要求的特殊工藝場景。如您有具體工藝參數(shù)（如溫度范圍、流量需求、介質(zhì)類型），可進一步選擇匹配的冠亞型號。